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天津市格林環保科技有限公司
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活性炭吸附工藝 活性炭是經過活化處理后的碳，其具備比表面積大，孔隙多的特點，使其具有較強吸附能力。顆粒碳比表面積一般可達700—1200m2/g，其孔徑大小范圍在1.5nm一5um之間。其吸附方式主要通過2種途徑：一是活性炭與氣體分子間的范德華力，當氣體分子經過活性炭表面，陜西催化燃燒設備，范德華力起主導作用時，催化燃燒設備報價，氣體分子先被吸附至活性炭外表面，小于活性炭孔徑的分子經內部擴散轉移至內表面，從而達到吸附的效果，此為物理吸附;二是吸附質與吸附劑表面原子間的化學鍵合成，此為化學吸附。活性炭吸附一般適用于大風量、低濃度、低濕度、低含塵的有機廢氣。
低溫等離子體
低溫等離子體是繼固態、液態、氣態之后的物質第四態，當外加電壓達到氣體的著火電壓時，氣體分子被擊穿，產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，催化燃燒設備廠家，整個體系呈現低溫狀態，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、 自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內發生分解，并發生后續的各種反應以達到降解污染物的目的。
低溫等離子體空氣凈化設備能夠顯著治理的污染有： VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵，也可用于殺菌。低溫等離子體技術是一種全新的凈化過程，不需要任何 添加劑、不產生廢水、廢渣，不會導致二次污染。
光催化和生物凈化設備
光催化是常溫深度反應技術。 光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無毒無害的產物，催化燃燒設備品牌，而傳統的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規的催化、氧化方法亦需要幾百度的高溫。
從理論上講，只要 半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物 光催化劑。
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